光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物及使用该组合物形成图案的方法

摘要

根据一个实施方案，光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物包含：下面通式(I)的化合物中的任意一个，当暴露于光化射线或辐射时生成酸的化合物以及疏水树脂。(通式(I)中所使用的符号具有说明书中所提到的含义。)R_N-A^-X⁺    (I)。

主权项

一种光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物，所述光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物包含下面通式(I)的化合物中的任意一个、当暴露于光化射线或辐射时生成酸的化合物和疏水树脂，R_N‑A^‑X⁺   (I)在通式(I)中，R_N表示含有至少一个氮原子的一价碱性化合物残基，所述碱性化合物残基的共轭酸R_NH⁺具有8以下的pKa值，并且所述R_N是以下通式(II)的基团中的任意一个基团，A^‑表示‑SO₃^‑、‑CO₂‑或‑X₁‑N^‑‑X₂‑R₁，其中每个X₁和X₂独立地表示‑CO‑或‑SO₂‑，并且R₁表示一价有机基团，并且X⁺表示抗衡阳离子，在通式(II)中，R₂₁表示一价有机基团，并且R₂₂表示二价有机基团，条件是R₂₁和R₂₂可以彼此结合从而形成环，L表示哈米特规则的σ_p值为‑0.1至0.5的官能团，不包括氢原子，并且所述官能团L为选自芳基、羧基、烷氧基、氰基、硝基、卤素原子、被作为官能团的芳基、烷氧羰基、烷基羰基氧基、羧基、烷氧基、氰基、硝基、卤素原子中任意一个取代的烷基、及含有内酯结构的基团中的基团，*表示结合至A^‑的位置。