发明名称 热处理装置用的腔室及热处理装置
摘要 本发明提供热处理装置用的腔室及热处理装置,对于热处理装置用的腔室,即使是大型的,也能够进一步减少制作所花费的劳力和时间。热处理装置(1)的腔室(4)具有:筒状的侧壁(12),其用于包围被处理物;以及端壁(13),其封闭侧壁(12)的一方的开口部(12b)。腔室(4)是将以氧化硅为主要成分的多个部件(侧壁(12)、端壁(13)、第1连结部件(14)、第2连结部件(15))机械结合起来而形成的。
申请公布号 CN104347454A 申请公布日期 2015.02.11
申请号 CN201410356050.3 申请日期 2014.07.24
申请人 光洋热系统股份有限公司 发明人 笠次克尚;西村圭介;浦崎义彦;森川清彦;中西裕也
分类号 H01L21/67(2006.01)I 主分类号 H01L21/67(2006.01)I
代理机构 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人 李辉;黄纶伟
主权项 一种热处理装置用的腔室,其特征在于,所述热处理装置用的腔室具备:筒状的侧壁,其用于包围被处理物;以及端壁,其封闭所述侧壁的一方的开口部,所述腔室是将以氧化硅为主要成分的多个部件机械结合起来而形成的。
地址 日本奈良县