发明名称 有配置为维持ISFET管芯压电电阻的基底或结合层的pH传感器
摘要 本发明公开了有配置为维持ISFET管芯压电电阻的基底或结合层的pH传感器。这里描述的实施例提供了配置用于在压力和温度范围上使用的pH传感器。pH传感器的ISFET管芯用结合层结合到pH传感器的基底,结合层设置在基底和ISFET管芯之间。跨压力和温度范围的压力和温度改变在pH传感器内生成环境力。此外,基底或结合层或二者在压力和温度范围上改变体积,并且基底或结合层或二者被配置使得体积改变引起抵消力,所述抵消力与环境力的至少一部分对立。抵消力被配置为在压力和温度范围上将ISFET管芯从漏极到源极的压电电阻的改变维持为小于0.5%。
申请公布号 CN104345083A 申请公布日期 2015.02.11
申请号 CN201410333967.1 申请日期 2014.05.28
申请人 霍尼韦尔国际公司 发明人 D·霍尔克黑默;P·S·费奇纳;D·S·威利茨
分类号 G01N27/414(2006.01)I;H01L29/78(2006.01)I 主分类号 G01N27/414(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 张凌苗;胡莉莉
主权项 一种配置用于在压力和温度范围上使用的pH传感器(2),所述pH传感器包括:基底(70);离子敏感场效应晶体管(ISFET)管芯(10),其包括响应pH的离子感测部分(12),其中ISFET管芯结合到基底,其中ISFET管芯的离子感测部分被配置为暴露于介质,并且其中离子感测部分输出与介质的pH水平相关的信号;结合层(20),其设置在基底和ISFET管芯之间,结合层结合到基底和ISFET管芯,并且其中结合层包括第一成分的结合剂材料;其中跨压力和温度范围的压力和温度改变在pH传感器内生成环境力;并且其中结合层或基底中的至少一个在压力和温度范围上改变体积,其中结合层或基底中的至少一个被配置使得体积改变引起抵消力,所述抵消力与环境力的至少一部分对立,并且其中抵消力被配置为在压力和温度范围上将ISFET管芯从漏极到源极的压电电阻的改变维持为小于0.5%。
地址 美国新泽西州