发明名称 线性溅射源分段供气系统
摘要 本实用新型公开了一种线性溅射源分段供气系统,包括一路磁控溅射工艺工作气体管路、多路磁控溅射工艺反应气体管路、分段供气装置,一路所述磁控溅射工艺工作气体管路、多路所述磁控溅射工艺反应气体管路和所述分段供气装置上均设置有质量流量计和截止阀。本实用新型提供了一种线性溅射源分段供气系统,解决工作气体和多种反应气体混气和供气的问题;解决混气后供气的流量的实时控制问题;解决与工艺抽气系统设计相适应的工艺供气系统气场分布设计;解决与多种磁控溅射工艺(中频反应磁控溅射、直流磁控溅射和射频磁控溅射等)相适合的问题;实现大批量稳定连续生产。
申请公布号 CN204151409U 申请公布日期 2015.02.11
申请号 CN201420253841.9 申请日期 2014.05.19
申请人 红安华州光电科技有限公司 发明人 郭爱云
分类号 C23C14/35(2006.01)I 主分类号 C23C14/35(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 线性溅射源分段供气系统,其特征在于:包括一路磁控溅射工艺工作气体管路、多路磁控溅射工艺反应气体管路、分段供气装置,一路所述磁控溅射工艺工作气体管路、多路所述磁控溅射工艺反应气体管路和所述分段供气装置上均设置有质量流量计和截止阀。 
地址 438400 湖北省红安县经济开发区新型产业园