| 发明名称 | 涂层源及其生产方法 | ||
| 摘要 | 提供一种用于物理气相沉积的涂层源1，所述涂层源具有在粉末冶金生产过程中由至少一种粉状起始材料制成的至少一个组件2；7以及嵌入在所述组件中的至少一个铁磁区域5a、5b、6。所述至少一个铁磁区域5a、5b、6是在所述粉末冶金生产过程中被引入到所述组件2；7中并且固定地连接到所述组件。 | ||
| 申请公布号 | CN102939403B | 申请公布日期 | 2015.02.11 |
| 申请号 | CN201180019261.2 | 申请日期 | 2011.04.12 |
| 申请人 | 攀时欧洲公司 | 发明人 | P·博尔西克;C·博尔车;M·贝利;S·席利西特勒;G·斯特劳斯 |
| 分类号 | C23C14/32(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I;H01J37/34(2006.01)I;B22F7/06(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/32(2006.01)I |
| 代理机构 | 广西南宁明智专利商标代理有限责任公司 45106 | 代理人 | 黎明天 |
| 主权项 | 一种用于物理气相沉积的阴极电弧沉积涂层源(1)，其具有至少一个组件(2；7；8)，所述至少一个组件是在粉末冶金生产过程中由至少一种粉状起始材料制成，以及至少一个铁磁区域(5a、5b、6)，所述至少一个铁磁区域嵌入在所述组件中，其中所述至少一个铁磁区域(5a、5b、6)是在所述粉末冶金生产过程中被引入到所述组件(2；7；8)中并且固定地连接到所述组件。 | ||
| 地址 | 奥地利乐特市 | ||