发明名称 | 温控装置 | ||
摘要 | |||
申请公布号 | TWI472613 | 申请公布日期 | 2015.02.11 |
申请号 | TW101151103 | 申请日期 | 2012.12.28 |
申请人 | 财团法人金属工业研究发展中心 | 发明人 | 黄俊维 |
分类号 | C12M1/38 | 主分类号 | C12M1/38 |
代理机构 | 代理人 | 张启威 高雄市鼓山区龙胜路68号 | |
主权项 | 一种温控装置,其用以改变复数个检体的温度,该温控装置包含:一基座,其具有一通孔、一升温区域及一降温区域,该升温区域具有一第一增温区及一第一持温区,该第一持温区位于该第一增温区及该降温区域之间,该通孔位于该第一增温区,该通孔具有一第一端及一第二端,该些检体通过该第一持温区具有一第一持温路径;一旋转载盘,其具有一第一表面及一第二表面,该第二表面朝向该基座,该第二表面至该第一增温区之空间为一第一增温空间,该第二表面至该第一持温区之空间为一第一持温空间,该旋转载盘用以承载该些检体;以及一第一温控单元,其具有一第一升温元件,且该第一升温元件为一红外线辐射源,该第一升温元件用以对通过该第一增温空间之该些检体加温,且该第一升温元件通过该通孔对该些检体加温,使该些检体温度升温至一第一反应温度,其中该第一升温元件于该通孔中显露的位置可于该第一端及该第二端之间移动,以改变该第一持温路径之长度,该第一持温空间用以使通过该第一持温空间的该些检体温度维持在该第一反应温度。 | ||
地址 | 高雄市楠梓区高楠公路1001号 |