发明名称 光致冷装置及其制备方法
摘要
申请公布号 TWI473249 申请公布日期 2015.02.11
申请号 TW101141159 申请日期 2012.11.06
申请人 财团法人纺织产业综合研究所 发明人 林岩锡;姚淑兰;方国华;曾胜茂;李晓燕
分类号 H01L27/04;H01L31/04 主分类号 H01L27/04
代理机构 代理人 蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼;李世章 台北市中山区松江路148号11楼
主权项 一种光致冷装置,其包含:一电路层,位于一基材上,该电路层具有复数对第一端点与第二端点;以及复数对部分重叠接触之N型光电半导体层与P型半导体层位于该基材上,以构成串联之复数个PN接合结构,其中该些N型光电半导体层分别一一与该些第一端点电性连接,该些P型半导体层分别一一与该些第二端点电性连接,且该些P型半导体层分别一一与该些N型光电半导体层部分重叠并直接接触,其中该些N型光电半导体层的材料组成包含能吸收太阳光之一光电材料与一银浆,该光电材料为能吸收紫外光之一有机金属材料或一夜光粉,该些P型半导体层的材料组成包含以碳原子为主结构的半导体材料与该银浆,该光致冷装置不需要储电装置及供电装置,即可发挥光致冷的功效。
地址 新北市土城区承天路6号