多光罩处理之光罩对准及重叠

主权项

一种使用多光罩之多掩模蚀刻处理方法，包含：接收具有特征布局间距之特征布局；及从该特征布局产生复数光罩布局，其中该复数光罩布局的各个光罩布局具有光罩布局间距，并且其中各个光罩布局间距至少是该特征布局间距的两倍，其中该复数光罩布局的第一光罩布局包含第一对准标记，并且其中该复数光罩布局的第二光罩布局包含用以匹配该第一光罩布局的该第一对准标记之第一对准标记和该第一光罩布局不匹配之第二对准标记。