发明名称 磁性薄膜的制造方法、磁性薄膜及磁性体
摘要 本发明提供在具有绝缘性的同时,具有永磁体功能,并且与以往相比剩余磁化能够得到提高的磁性薄膜的制造方法、磁性薄膜及磁性体。形成磁性薄膜3时,对于包含含有在具有绝缘性的同时具有永磁体功能ε型氧化铁系化合物的磁性粒子的涂布液,施加规定强度的外部磁场,使该涂布液固化而形成磁性薄膜3,从而可以使含有该ε型氧化铁系化合物的磁性粒子在沿磁化方向规则取向的状态下进行固化,这样一来,就可以提供在具有绝缘性的同时,具有永磁体功能,并且与以往相比剩余磁化能够得到提高的磁性薄膜3的制造方法、磁性薄膜3及磁性体1。
申请公布号 CN102473519B 申请公布日期 2015.02.11
申请号 CN201080026856.6 申请日期 2010.06.24
申请人 国立大学法人东京大学;同和电子科技有限公司 发明人 大越慎一;生井飞鸟;高见和之;富田浩太郎
分类号 H01F41/16(2006.01)I;C01G49/00(2006.01)I;C09D5/23(2006.01)I;C09D7/12(2006.01)I;C09D201/00(2006.01)I;G11B5/706(2006.01)I;G11B5/845(2006.01)I;H01F10/22(2006.01)I 主分类号 H01F41/16(2006.01)I
代理机构 北京市浩天知识产权代理事务所(普通合伙) 11276 代理人 雒纯丹
主权项 磁性薄膜的制造方法,其特征在于,具备:通过将在溶液中添加有中和剂的中和剂溶液与按8wt%以下的量添加有作为形状控制剂的钙离子的原料溶液混合,来制作混合溶液,在该混合溶液中使氢氧化铁系化合物粒子进行沉淀反应的工序;向前述混合溶液中添加硅烷化合物溶液,用二氧化硅在氢氧化铁系化合物粒子的表面上包覆,生成二氧化硅包覆氢氧化铁系化合物粒子的工序;从前述的混合溶液中分离前述的二氧化硅包覆氢氧化铁系化合物粒子后,通过焙烧处理生成热处理粉体的工序;制造磁性材料涂浆的工序,将前述热处理粉体添加到水溶液中,通过使用前述钙离子,切实地除去包覆热处理粉体表面的二氧化硅,制作包含具有绝缘性同时具有永磁体功能的ε型氧化铁系化合物的棒状磁性粒子后,进行在不经过干燥处理而使前述磁性粒子分散在水中的状态下直接进行调节pH值及调节固形物浓度的精制处理,前述磁性粒子的动态光散射法平均粒径与通过透射型电子显微镜观察到的观察平均粒径之比为5以下;涂布工序,将前述磁性材料涂浆所制成的涂布液涂布在成膜对象上;和形成磁性薄膜的形成工序,在对涂布于前述成膜对象上的前述涂布液施加规定强度的外部磁场的状态下,使前述涂布液固化而形成磁性薄膜。
地址 日本东京