| 发明名称 | 用于处理柔性基底的表面的装置 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种用于处理柔性基底（6）的表面（4）的装置。该装置包括：用于传输基底（6）的传输机构（20、22、24、26、28、30、8、10）；和至少一个喷嘴头（2），所述至少一个喷嘴头包括两个或更多个用于使基底（6）的表面（4）经受至少第一前驱物和第二前驱物作用的前驱物区域（14、16）。根据本发明，传输机构（20、22、24、26、28、30、8、10）包括传输筒体（8），并且喷嘴头形成为围绕着传输筒体（8）设置的喷嘴头筒体（2），用于在传输筒体（8）与喷嘴头筒体（2）之间传输和处理基底（6）。 | ||
| 申请公布号 | CN103108985B | 申请公布日期 | 2015.02.11 |
| 申请号 | CN201180041755.0 | 申请日期 | 2011.08.25 |
| 申请人 | BENEQ有限公司 | 发明人 | J·辛科 |
| 分类号 | C23C16/455(2006.01)I;C23C16/54(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/455(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 王会卿 |
| 主权项 | 一种用于处理柔性的基底(6)的表面(4)的装置，通过使基底(6)的表面(4)经受至少第一前驱物和第二前驱物的相继表面反应而进行所述处理，所述装置包括：至少一个喷嘴头(2)，所述至少一个喷嘴头包括两个或更多个用于使基底(6)的表面(4)经受至少第一前驱物和第二前驱物作用的前驱物区域(14、16)；和用于传输基底(6)的传输机构(20、22、24、26、28、30、8、10)；喷嘴头形成为喷嘴头筒体(2)，所述喷嘴头筒体在内筒体表面上设有输出面(5)，用于使基底(6)的表面(4)经受至少第一前驱物和第二前驱物的表面反应；以及传输机构(20、22、24、26、28、30、8、10)包括传输表面(3)，所述传输表面与喷嘴头筒体(2)的输出面(5)至少部分相符，用于在输出面(5)与传输表面(3)之间传输基底(6)；其特征在于：传输机构(20、22、24、26、28、30、8、10)设置用于将基底(6)导引至传输表面(3)以及从传输表面(3)导引出，传输表面(3)设有一个或多个用于沿着传输表面(3)导引基底(6)的传输元件(10)。 | ||
| 地址 | 芬兰万塔 | ||