发明名称 具有高Q晶圆背面电容之半导体积体电路装置
摘要
申请公布号 TWI473247 申请公布日期 2015.02.11
申请号 TW096116072 申请日期 2007.05.07
申请人 万国商业机器公司 发明人 劳伦斯 克莱芬哲;堤摩西 乔瑟芬 达顿;许履尘;卡尔 瑞登斯;维蒂雅 瑞马钦卓;王光翰;杨智超
分类号 H01L27/04;H01L21/822 主分类号 H01L27/04
代理机构 代理人 李宗德 台北市大安区敦化南路2段218号5楼A区
主权项 一种半导体元件,包括:一半导体基板,具有一前侧、一背侧与一埋式绝缘层插入至该基板之该前侧和该背侧之间;一积体电路,形成于该半导体基板之该前侧;一积体电容,形成于该半导体基板之该背侧,其中该积体电容包括一第一金属板、一第二金属板与置于该第一金属板与该第二金属板间之一介电质,且该第一金属板与该埋式绝缘层接触;以及一互连结构,系形成穿过该埋式绝缘层,以连接该积体电容至该积体电路。
地址 美国