发明名称 电阻式记忆体结构及其制作方法
摘要
申请公布号 TWI473262 申请公布日期 2015.02.11
申请号 TW101136533 申请日期 2012.10.03
申请人 力晶科技股份有限公司 发明人 林展庆;黄振浩;黄宗彬;陈俊丞;陈菁华
分类号 H01L27/24;H01L21/8239 主分类号 H01L27/24
代理机构 代理人 吴丰任 新北市永和区福和路389号6楼之3;戴俊彦 新北市永和区福和路389号6楼之3
主权项 一种电阻式记忆体单元,设于一基底上,包含有:至少一位元线,沿着第一方向延伸;至少一字元线,且沿着一第二方向延伸,与该位元线交叉;一硬遮罩层,直接位于该字元线上并且夹置于该字元线与该位元线之间;一第一记忆胞,设于该字元线的第一侧壁上,该第一记忆胞包含有:一第一侧壁型电阻转换层;一第一上电极,覆盖该第一侧壁型电阻转换层以及该硬遮罩层的第一侧壁,其中该字元线的第一侧壁系与该硬遮罩层的第一侧壁共平面;以及一第一二极体元件电耦合至该第一上电极;以及一第二记忆胞,设于该字元线的第二侧壁上,该第二记忆胞包含有:一第二侧壁型电阻转换层;一第二上电极,覆盖该第二侧壁型电阻转换层以及该硬遮罩层的第二侧壁,其中该字元线的第二侧壁系与该硬遮罩层的第二侧壁共平面;以及一第二二极体元件电耦合至该第二上电极。
地址 新竹市新竹科学园区力行一路12号