发明名称 一种电镜扫描样品制备方法
摘要 本发明公开了一种电镜扫描样品制备方法,包括:在芯片待取样的区域上形成保护层;图形化所述保护层以形成多个矩形的定位图形;在所述定位图形处形成定位孔;填充所述定位孔形成定位柱;将待取样区域切割取出,形成长方体状的粗样;对所述粗样在Y方向上进行减薄,同时用电子束观察粗样,直至暴露出所述定位柱,形成电镜扫描样品。由于采用定位柱控制样品厚度和减薄过程,能精确控制为样品厚度为所需要的厚度,并且能节省样品备制时间。
申请公布号 CN104344980A 申请公布日期 2015.02.11
申请号 CN201310323522.0 申请日期 2013.07.29
申请人 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 发明人 赵耀斌;李日鑫;戴海波;于倩倩;李会淑;张彤;刘文晓
分类号 G01N1/28(2006.01)I 主分类号 G01N1/28(2006.01)I
代理机构 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人 屈蘅;李时云
主权项 一种电镜扫描样品制备方法,包括:在芯片待取样的区域上形成保护层;图形化所述保护层以形成多个矩形的定位图形;在所述定位图形处形成定位孔;填充所述定位孔形成定位柱;将待取样区域切割取出,形成长方体状的粗样,所述保护层所在的面为顶面,所述顶面的较长的一边为X方向,顶面的较短的一边Y方向,垂直于X、Y方向所在平面的方向为Z方向;对所述粗样在Y方向上进行减薄,同时用电子束观察粗样,直至暴露出所述定位柱,形成电镜扫描样品。
地址 201203 上海市浦东新区张江路18号