| 发明名称 | 表面保护膜及贴合有该表面保护膜的光学部件 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种对被粘附体的污染少，并且对被粘附体的低污染性随着时间推移不发生变化的表面保护膜，并具有无经时劣化的优良的抗剥离静电性能的表面保护膜，以及使用了该表面保护膜的光学部件。表面保护膜(10)在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的单面形成有粘结剂层(2)，并在该粘结剂层(2)上贴合了具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)，其中，所述剥离膜(5)是在树脂膜(3)的单面形成剥离剂层(4)而成，该剥离剂层(4)是通过含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂、20℃下是液体的聚硅氧烷类化合物和熔点为30～80℃的离子性化合物的树脂组合物来形成；所述粘结剂层(2)是丙烯酸类粘结剂层。 | ||
| 申请公布号 | CN104342044A | 申请公布日期 | 2015.02.11 |
| 申请号 | CN201410242459.2 | 申请日期 | 2014.06.03 |
| 申请人 | 藤森工业株式会社 | 发明人 | 小林弘幸;春日充;远藤佳子;林益史 |
| 分类号 | C09J7/02(2006.01)I;C09D183/04(2006.01)I;C09D7/12(2006.01)I;G02B1/10(2006.01)I | 主分类号 | C09J7/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人 | 崔香丹;洪燕 |
| 主权项 | 一种表面保护膜，在由具有透明性的树脂构成的基材膜的单面形成有粘结剂层，并在该粘结剂层上贴合了具有剥离剂层的剥离膜，其中，所述剥离膜是在树脂膜的单面上形成所述剥离剂层而成，该剥离剂层是通过含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂、20℃下是液体的聚硅氧烷类化合物和熔点为30～80℃的离子性化合物的树脂组合物来形成，所述粘结剂层是丙烯酸类粘结剂层。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||