发明名称 用于清洁化学机械抛光后基板之组合物
摘要
申请公布号 TWI472610 申请公布日期 2015.02.11
申请号 TW101130518 申请日期 2012.08.22
申请人 义凯西技术公司 发明人 大竹敦;伯纳提斯 保罗R;单 凯斯X
分类号 C11D3/36;B08B3/08;H01L21/306 主分类号 C11D3/36
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种CMP后清洁组合物,其不含氮原子且包括至少一种氢氧化鏻之硷。
地址 美国