发明名称 |
抗分层及抗裂化之影像感测器结构及方法 |
摘要 |
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申请公布号 |
TWI473256 |
申请公布日期 |
2015.02.11 |
申请号 |
TW098118047 |
申请日期 |
2009.06.01 |
申请人 |
万国商业机器公司 |
发明人 |
卡比诺杰佛瑞;札菲马克D;赖迪罗柏特K;莫森特查尔斯F;拉塞尔理察J |
分类号 |
H01L27/14;G02B3/00;H01L21/76 |
主分类号 |
H01L27/14 |
代理机构 |
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代理人 |
蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼;李世章 台北市中山区松江路148号11楼 |
主权项 |
一种影像感测器结构,包含:一基材,包含一感光部分及一电路部分;一介电隔离金属化堆叠,设置在该基材上;一平坦化层,设置在该介电隔离金属化堆叠上方;复数个主动透镜(active lens)层,设置在该平坦化层上方并以该感光部分内的复数个感光区域标示;以及至少一个不同尺寸的仿真(dummy)透镜层,其系至少部分设置在位于该电路部分上的该平坦化层上方;以及一透镜覆盖层,钝化该复数个主动透镜层、该至少一个仿真透镜层及该平坦化层的暴露部分。 |
地址 |
美国 |