| 发明名称 |
多重曝光微影法及光阻组成物 |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
TWI472873 |
申请公布日期 |
2015.02.11 |
| 申请号 |
TW098100118 |
申请日期 |
2009.01.05 |
| 申请人 |
万国商业机器公司 |
发明人 |
陈光荣;黄吴桑;邝 雷尼 威林;刘森;法拉那西 普许卡拉Ｒ |
| 分类号 |
G03F7/004;G03F7/20;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/004 |
| 代理机构 |
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代理人 |
李宗德 台北市大安区敦化南路2段218号5楼Ａ区 |
| 主权项 |
一种光阻组成物，包含：一聚合物，具有一结构包含至少一个酸性不稳定基或至少一个硷可溶基；一感光酸生成剂，能够在曝光于一第一辐射剂量之后产生一第一酸量，该感光酸生成剂能够在曝光于一第二辐射剂量之后产生一第二酸量，该第二酸量大于该第一酸量，该第二辐射剂量大于该第一辐射剂量；及一感光硷生成剂，能够在曝光于该第一辐射剂量之后产生一第一硷量，该感光硷生成剂能够在曝光于该第二辐射剂量之后产生一第二硷量，该第一硷量大于该第一酸量，该第二硷量小于该第二酸量，其中该感光硷生成剂为 |
| 地址 |
美国 |
