发明名称 光源装置及投影机
摘要 本发明提供能够通过简便的构成有效活用激发光的光源装置及投影机。本发明的光源装置具备:发光元件,其具有第1发光区域与第2发光区域,射出第1波段的激发光;荧光体层,其设置成俯视与第1发光区域重叠,通过从第1发光区域射出的第1激发光的照射,发出与第1波段不同的第2波段的光;反射元件,其设置于荧光体层的与发光元件相反侧,使第2波段的光透射,将第1波段的光反射;和导光部,其配置于荧光体层与反射元件之间的光路中,使从第2发光区域射出的第2激发光及从荧光体层射出的光透射、使由反射元件反射的第2激发光中的至少一部分入射到荧光体层地对第2激发光进行导光。
申请公布号 CN104345531A 申请公布日期 2015.02.11
申请号 CN201410354018.1 申请日期 2014.07.23
申请人 精工爱普生株式会社 发明人 坂田秀文;桥爪俊明;安松航
分类号 G03B21/20(2006.01)I;F21V13/00(2006.01)I 主分类号 G03B21/20(2006.01)I
代理机构 北京市中咨律师事务所 11247 代理人 万利军;陈海红
主权项 一种光源装置,其特征在于,具备:发光元件,其具有第1发光区域与第2发光区域,射出第1波段的激发光;荧光体层,其设置成俯视与所述第1发光区域重叠,通过从所述第1发光区域射出的第1激发光的照射,发出与所述第1波段不同的第2波段的光;反射元件,其设置于所述荧光体层的与所述发光元件相反侧,使所述第2波段的光透射,将所述第1波段的光反射;和导光部,其配置于所述荧光体层与所述反射元件之间的光路中,以使从所述第2发光区域射出的第2激发光以及从所述荧光体层射出的光透射、使由所述反射元件反射的所述第2激发光中的至少一部分入射到所述荧光体层的方式,对所述第2激发光进行导光。
地址 日本东京都