| 发明名称 | 液浸构件及曝光装置 | ||
| 摘要 | 本发明的液浸构件(5)，是在能于光学构件(13)下方移动的物体(P)上形成液浸空间(LS)，使得从光学构件的射出面(12)射出的曝光用光(EL)的光路(K)被液体(LQ)充满。液浸构件具备配置在光学构件周围至少一部分的第1构件(21)与能在第1构件的至少一部分的外侧移动、具有回收液浸空间的液体的至少一部分的回收口(24)的第2构件(22)。 | ||
| 申请公布号 | CN104350425A | 申请公布日期 | 2015.02.11 |
| 申请号 | CN201380029835.3 | 申请日期 | 2013.03.15 |
| 申请人 | 株式会社 尼康 | 发明人 | 柴崎祐一 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人 | 汤在彦 |
| 主权项 | 一种液浸构件，是以从光学构件的射出面射出的曝光用光的光路被液体充满的方式，在能于该光学构件下方移动的物体上形成液浸空间，具备：第1构件，配置在该光学构件周围的至少一部分；以及第2构件，能与该第1构件隔着间隙在该第1构件的下方移动，具有回收该液浸空间的液体的至少一部分的回收口。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||