发明名称 | 基板处理设备 | ||
摘要 | 提供一种基板处理设备。该基板处理设备包括处理容器,所述处理容器具有开口的上部;基板加热单元,所述基板加热单元在支撑基板时,加热设置在所述处理容器中的所述基板;以及处理溶液供应单元,所述处理溶液供应单元将处理溶液供应到设置在所述基板加热单元上的所述基板上。所述基板加热单元包括:可旋转的卡盘台,在所述卡盘台上放置所述基板;具有中空形状的旋转部件,所述旋转部件被耦合到所述卡盘台以旋转所述卡盘台;以及热产生部件,所述热产生部件设置在所述卡盘台中。 | ||
申请公布号 | CN104347382A | 申请公布日期 | 2015.02.11 |
申请号 | CN201410374439.0 | 申请日期 | 2014.07.31 |
申请人 | 细美事有限公司 | 发明人 | 金裕桓;崔重奉;黄浩钟 |
分类号 | H01L21/302(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/302(2006.01)I |
代理机构 | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人 | 申健 |
主权项 | 一种基板处理设备,其特征在于,包括:处理容器,所述处理容器具有开口的上部;基板加热单元,所述基板加热单元在支撑基板的同时,加热设置在所述处理容器中的所述基板;以及处理溶液供应单元,所述处理溶液供应单元将处理溶液供应到设置在所述基板加热单元上的所述基板上,其中所述基板加热单元包括:可旋转的卡盘台,在所述卡盘台上放置所述基板;旋转部件,所述旋转部件具有中空形状,所述旋转部件被耦合到所述卡盘台以旋转所述卡盘台;以及热产生部件,所述热产生部件设置在所述卡盘台中。 | ||
地址 | 韩国忠清南道天安市西北区稷山邑四产团五街77号 |