| 发明名称 | 预清洗腔室及等离子体加工设备 | ||
| 摘要 | 本发明提供的预清洗腔室及等离子体加工设备，包括腔体、顶盖和承载单元，顶盖设置在腔体顶端，承载单元设置在腔体底部，用以承载晶片，并且，在腔体内的承载单元上方设置有离子过滤单元，该离子过滤单元用于在等离子体自其上方朝向所述承载单元的方向运动时，过滤等离子体中的离子。本发明提供的预清洗腔室，其可以在等离子体自其上方朝向所述承载单元的方向运动时，过滤等离子体中的离子，从而可以避免等离子体中的氢离子对Low-k材料的不良影响，进而可以提高产品性能。 | ||
| 申请公布号 | CN104342632A | 申请公布日期 | 2015.02.11 |
| 申请号 | CN201310341787.3 | 申请日期 | 2013.08.07 |
| 申请人 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 发明人 | 陈鹏;吕铀;丁培军;杨敬山;边国栋;赵梦欣;余清;李伟 |
| 分类号 | C23C16/02(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人 | 彭瑞欣;张天舒 |
| 主权项 | 一种预清洗腔室，包括腔体、顶盖和承载单元，所述顶盖设置在所述腔体顶端，所述承载单元设置在所述腔体底部，用以承载晶片，其特征在于，在所述腔体内的所述承载单元上方设置有离子过滤单元，所述离子过滤单元用于在等离子体自其上方朝向所述承载单元的方向运动时，过滤所述等离子体中的离子。 | ||
| 地址 | 100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号 | ||