发明名称 净化装置
摘要
申请公布号 TWI472400 申请公布日期 2015.02.11
申请号 TW100136036 申请日期 2011.10.05
申请人 芝浦机械电子装置股份有限公司 发明人 广濑治道;牧野勉;宫本高志;渡边茂
分类号 B23Q11/12;C02F1/72 主分类号 B23Q11/12
代理机构 代理人 恽轶群 台北市松山区南京东路3段248号7楼;陈文郎 台北市松山区南京东路3段248号7楼
主权项 一种净化装置,系净化在加工机械中使用过的处理液者,其包含有:贮液槽,系贮存前述在加工机械中使用过的处理液者;泡沫产生机构,系在所供给之使用过的处理液中产生泡沫,而生成含有泡沫之使用过的处理液者;处理液供给机构,系吸引前述贮液槽之使用过的处理液,供给至前述泡沫产生机构者;供给部,系将前述泡沫产生机构所生成之含有泡沫之使用过的处理液导至前述贮液槽,将该含有泡沫之使用过的处理液供给至该贮液槽者;及处理液循环机构,系吸引前述贮液槽之使用过的处理液而使之返回至该贮液槽者,前述处理液供给机构中之从前述贮液槽吸引前述使用过的处理液的机构,具有藉由气体之喷射力驱动的泵;前述泡沫产生机构具有:由前述处理液供给机构供给前述使用过的处理液的泡沫产生部本体;及将气体供给至该泡沫产生部本体的气体供给机构,前述泡沫产生部本体在前述所供给之使用过的处理液中产生前述所供给之气体的泡沫,前述泵将前述泡沫产生机构中之前述气体供给机
地址 日本
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