发明名称 |
多层线圈的制造方法及磁性装置 |
摘要 |
本发明公开了一种多层线圈的制造方法及磁性装置,多层线圈的制造方法包括:提供基板;于基板上形成种子层;以及根据N个阈值范围以N个电流密度于种子层上电镀N个线圈层,以于基板上形成多层线圈,其中N个电流密度中的第i个电流密度小于第i+1个电流密度,N是大于1的正整数,且i是小于或等于N的正整数。N个线圈层中的第1个线圈层是以N个电流密度中的第1个电流密度电镀于种子层上。当N个线圈层中的第i个线圈层的纵横比介于N个阈值范围中的第i个阈值范围之间时,以第i+1个电流密度于第i个线圈层上电镀第i+1个线圈层。本发明是以变动电流密度于基板上电镀形成多层线圈,可有效提高磁性装置的电性。 |
申请公布号 |
CN104347262A |
申请公布日期 |
2015.02.11 |
申请号 |
CN201310412807.1 |
申请日期 |
2013.09.11 |
申请人 |
乾坤科技股份有限公司 |
发明人 |
王钟雄;江朗一;张炜谦;林雨欣 |
分类号 |
H01F41/04(2006.01)I;H01F17/04(2006.01)I;H01F27/28(2006.01)I |
主分类号 |
H01F41/04(2006.01)I |
代理机构 |
深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 |
代理人 |
江耀纯 |
主权项 |
一种多层线圈的制造方法,其特征在于,包括:提供基板;于所述基板上形成种子层;以及根据N个阈值范围以N个电流密度于所述种子层上电镀N个线圈层,以于所述基板上形成多层线圈,所述N个电流密度中的第i个电流密度小于第i+1个电流密度,N是大于1的正整数,i是小于或等于N的正整数;其中,所述N个线圈层中的第1个线圈层是以所述N个电流密度中的第1个电流密度电镀于所述种子层上;当所述N个线圈层中的第i个线圈层的纵横比介于所述N个阈值范围中的第i个阈值范围之间时,以第i+1个电流密度于所述第i个线圈层上电镀第i+1个线圈层。 |
地址 |
中国台湾新竹 |