发明名称 多层线圈的制造方法及磁性装置
摘要 本发明公开了一种多层线圈的制造方法及磁性装置,多层线圈的制造方法包括:提供基板;于基板上形成种子层;以及根据N个阈值范围以N个电流密度于种子层上电镀N个线圈层,以于基板上形成多层线圈,其中N个电流密度中的第i个电流密度小于第i+1个电流密度,N是大于1的正整数,且i是小于或等于N的正整数。N个线圈层中的第1个线圈层是以N个电流密度中的第1个电流密度电镀于种子层上。当N个线圈层中的第i个线圈层的纵横比介于N个阈值范围中的第i个阈值范围之间时,以第i+1个电流密度于第i个线圈层上电镀第i+1个线圈层。本发明是以变动电流密度于基板上电镀形成多层线圈,可有效提高磁性装置的电性。
申请公布号 CN104347262A 申请公布日期 2015.02.11
申请号 CN201310412807.1 申请日期 2013.09.11
申请人 乾坤科技股份有限公司 发明人 王钟雄;江朗一;张炜谦;林雨欣
分类号 H01F41/04(2006.01)I;H01F17/04(2006.01)I;H01F27/28(2006.01)I 主分类号 H01F41/04(2006.01)I
代理机构 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 代理人 江耀纯
主权项 一种多层线圈的制造方法,其特征在于,包括:提供基板;于所述基板上形成种子层;以及根据N个阈值范围以N个电流密度于所述种子层上电镀N个线圈层,以于所述基板上形成多层线圈,所述N个电流密度中的第i个电流密度小于第i+1个电流密度,N是大于1的正整数,i是小于或等于N的正整数;其中,所述N个线圈层中的第1个线圈层是以所述N个电流密度中的第1个电流密度电镀于所述种子层上;当所述N个线圈层中的第i个线圈层的纵横比介于所述N个阈值范围中的第i个阈值范围之间时,以第i+1个电流密度于所述第i个线圈层上电镀第i+1个线圈层。
地址 中国台湾新竹
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