发明名称 GaN基LED外延片及其形成方法
摘要 本发明提出一种GaN基LED外延片及其形成方法,其中该GaN基LED外延片包括:衬底;形成在衬底之上的缓冲层;形成在缓冲层之上的N型GaN层;形成在N型GaN层之上的量子阱层;形成在量子阱层之上的第一超晶格结构层;形成在第一超晶格结构层之上的低温P型GaN层;形成在低温P型GaN层之上的电子阻挡层;以及形成在电子阻挡层之上的P型GaN层。本发明的GaN基LED外延片及其形成方法具有驱动电压低,内量子效率高的优点。
申请公布号 CN104347763A 申请公布日期 2015.02.11
申请号 CN201310317981.8 申请日期 2013.07.25
申请人 比亚迪股份有限公司 发明人 陈飞
分类号 H01L33/06(2010.01)I;H01L33/32(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I 主分类号 H01L33/06(2010.01)I
代理机构 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人 张大威
主权项 一种GaN基LED外延片,其特征在于,包括:衬底;形成在所述衬底之上的缓冲层;形成在所述缓冲层之上的N型GaN层;形成在所述N型GaN层之上的量子阱层;形成在所述量子阱层之上的第一超晶格结构层;形成在所述第一超晶格结构层之上的低温P型GaN层;形成在所述低温P型GaN层之上的电子阻挡层;以及形成在所述电子阻挡层之上的P型GaN层。
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