发明名称 |
GaN基LED外延片及其形成方法 |
摘要 |
本发明提出一种GaN基LED外延片及其形成方法,其中该GaN基LED外延片包括:衬底;形成在衬底之上的缓冲层;形成在缓冲层之上的N型GaN层;形成在N型GaN层之上的量子阱层;形成在量子阱层之上的第一超晶格结构层;形成在第一超晶格结构层之上的低温P型GaN层;形成在低温P型GaN层之上的电子阻挡层;以及形成在电子阻挡层之上的P型GaN层。本发明的GaN基LED外延片及其形成方法具有驱动电压低,内量子效率高的优点。 |
申请公布号 |
CN104347763A |
申请公布日期 |
2015.02.11 |
申请号 |
CN201310317981.8 |
申请日期 |
2013.07.25 |
申请人 |
比亚迪股份有限公司 |
发明人 |
陈飞 |
分类号 |
H01L33/06(2010.01)I;H01L33/32(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/06(2010.01)I |
代理机构 |
北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 |
代理人 |
张大威 |
主权项 |
一种GaN基LED外延片,其特征在于,包括:衬底;形成在所述衬底之上的缓冲层;形成在所述缓冲层之上的N型GaN层;形成在所述N型GaN层之上的量子阱层;形成在所述量子阱层之上的第一超晶格结构层;形成在所述第一超晶格结构层之上的低温P型GaN层;形成在所述低温P型GaN层之上的电子阻挡层;以及形成在所述电子阻挡层之上的P型GaN层。 |
地址 |
518118 广东省深圳市坪山新区比亚迪路3009号 |