| 发明名称 | 用于沉积的掩模、掩模组件和形成掩模组件的方法 | ||
| 摘要 | 公开了一种用于沉积的掩模、掩模组件和形成掩模组件的方法，所述用于沉积的掩模包括：掩模主体，在第一方向上延伸，具有第一厚度，包括在第一方向上彼此相对并被框架支撑的端部，同时张力在第一方向上被施加到掩模；以及多个有效图案，在掩模主体的中心区域中在第一方向上彼此分隔，具有小于第一厚度的第二厚度。 | ||
| 申请公布号 | CN104342616A | 申请公布日期 | 2015.02.11 |
| 申请号 | CN201410361099.8 | 申请日期 | 2014.07.25 |
| 申请人 | 三星显示有限公司 | 发明人 | 高政佑 |
| 分类号 | C23C14/04(2006.01)I;C23C16/04(2006.01)I;H01L51/56(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人 | 尹淑梅;韩芳 |
| 主权项 | 一种用于沉积的掩模，所述掩模包括：掩模主体，在第一方向上延伸，具有第一厚度，包括在第一方向上彼此相对并被框架支撑的端部，同时张力在第一方向上被施加到掩模；以及多个有效图案，在掩模主体的中心区域中在第一方向上彼此分离，具有小于第一厚度的第二厚度。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道龙仁市 | ||