发明名称 接触窗开口的形成方法
摘要
申请公布号 TWI473205 申请公布日期 2015.02.11
申请号 TW100143036 申请日期 2011.11.24
申请人 力晶科技股份有限公司 发明人 蔡孟峰;张宜翔;林嘉祺;陈奕炘;吴家铭
分类号 H01L21/768;H01L21/027 主分类号 H01L21/768
代理机构 代理人 詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;叶璟宗 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1
主权项 一种接触窗开口的形成方法,包括:提供一基底,该基底包括一密集区与一独立区;于该基底上形成一材料层;于该密集区中的该材料层上形成多个牺牲图案,且于相邻两个牺牲图案之间具有一第一开口;于各该牺牲图案两侧分别形成一间隙壁,且该些间隙壁彼此分离设置;移除该些牺牲图案,而于相邻两个间隙壁之间形成一第二开口;形成填满该些第二开口的一平坦层;于该平坦层中形成一第一狭缝,该第一狭缝暴露出位于该些第二开口下方的部份该材料层,其中于该平坦层中形成该第一狭缝的方法包括:于该平坦层上形成一第一图案化光阻层,该第一图案化光阻层中具有一第二狭缝与一第四开口,其中该第二狭缝暴露出该密集区中的部份该平坦层,且该第四开口暴露出该独立区中的部份该平坦层;以及以该第一图案化光阻层为罩幕,移除由该第二狭缝与该第四开口所暴露出的部份该平坦层,而分别在该密集区的该平坦层中形成该第一狭缝且在该独立区的该平坦层中形成一第五开口;以及移除由该第一狭缝所暴露出的部份该材料层,而在该材料层中形成多个第三开口。
地址 新竹市新竹科学工业园区力行一路12号