发明名称 Halteeinrichtung und Lithographieanlage
摘要 Halteeinrichtung (204, 500, 600) zum Halten eines Elements (206, 504, 604) in einer Fassung (202) in einer Lithographieanlage (100), wobei das Element (206, 504, 604) aus einem ersten Material mit einem ersten thermischen Ausdehnungskoeffizienten gefertigt ist und die Halteeinrichtung (204, 500, 600) aufweist zumindest ein Halteelement (208, 502, 602), das aus einem zweiten Material mit einem zweiten thermischen Ausdehnungskoeffizienten gefertigt ist, wobei das Halteelement (208, 502, 602) dazu eingerichtet ist, das Element (206, 504, 604) zumindest teilweise in der Fassung (202) zu halten, und zumindest ein Verbindungselement (300, 506, 606), das zwischen dem Element (206, 504, 604) und dem Halteelement (208, 502, 602) angeordnet ist, wobei eine ersten Seite (302) des Verbindungselements (300, 506, 606) mit dem Element (206, 504, 604) und eine zweite Seite (304) des Verbindungselement (300, 506, 606) mit dem Halteelement (208, 502, 602) verbunden ist, wobei das Verbindungselement (300, 506, 606) aus einem Material gefertigt ist, das dazu eingerichtet ist, einen Unterschied zwischen dem ersten thermischen Ausdehnungskoeffizienten und dem zweiten thermischen Ausdehnungskoeffizienten auszugleichen, wobei das Material des Verbindungselements (300, 506, 606) eine Mischung aus einer bindefähigen Metallmatrix und einem inertem Kornmaterial aufweist, wobei sich ein Metallgehalt vom Element (206, 504, 604) zum Halteelement (208, 502, 602) hin derart ändert, dass sich der thermische Ausdehnungskoeffizient des Verbindungselements (300, 506, 606) vom Element (206, 504, 604) zum Halteelement (208, 502, 602) ändert.
申请公布号 DE102014224418(A1) 申请公布日期 2015.02.05
申请号 DE201410224418 申请日期 2014.11.28
申请人 CARL ZEISS SMT GMBH 发明人 HARTJES, JOACHIM
分类号 G02B7/00;G03F7/20 主分类号 G02B7/00
代理机构 代理人
主权项
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