Kollektoranordnung für EUV- und/oder weiche Röntgenstrahlung

摘要

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Kollektoranordnung für EUV- und/oder weiche Röntgenstrahlung, die von einer Plasmaquelle emittiert wird. Die Kollektoranordnung weist einen ersten und einen zweiten weiche Röntgen- und/oder EUV-Strahlung reflektierenden Spiegel auf, die auf gegenüberliegenden Seiten der Plasmaquelle angeordnet sind. Der erste Spiegel lenkt und/oder fokussiert einen ersten Anteil der von der Plasmaquelle emittierten Strahlung in eine vorgegebene Richtung. Der zweite Spiegel reflektiert einen zweiten Anteil der von der Plasmaquelle emittierten Strahlung so auf den ersten Spiegel, dass er vom ersten Spiegel ebenfalls in die vorgegebene Richtung gelenkt und/oder fokussiert wird. Bei der vorgeschlagenen Kollektoranordnung sind beide Spiegel als Multilayerspiegel ausgebildet. Die vorgeschlagene Kollektoranordnung ermöglicht die Erfassung eines gegenüber bekannten Anordnungen vergrößerten Raumwinkelbereiches der emittierten Strahlung, so dass ein größerer Anteil dieser Strahlung für Anwendungen genutzt werden kann.