| 摘要 |
<p>Verfahren zur Entfernung eines Hartbeschichtungsfilms (30) von einem Hauptkörper (20) eines Hartbeschichtungsfilm-beschichteten Elements (12), wobei eine Oberfläche des Hauptkörpers mit dem Hartbeschichtungsfilm beschichtet ist, der aus einem Metallcarbid, einem Metallnitrid oder einem Metallcarbonitrid aus Gruppe IIIb, IVa, Va oder VIa des Periodensystems der Elemente oder aus einer festen Lösung dieser Verbindungen besteht, der Hartbeschichtungsfilm von dem Hauptkörper durch Strahlen eines Ionenstrahls auf den Hartbeschichtungsfilm entfernt wird, um den Hartbeschichtungsfilm zu ätzen, dadurch gekennzeichnet, dass: das Ätzen durch Strahlen des unter Verwendung eines Inertgases als ein Betriebsgas erzeugten Ionenstrahls auf den Hartbeschichtungsfilm (30) durchgeführt wird, das Ätzen Schritte umfassend: einen ersten Ätzschritt des Ätzens des Hartbeschichtungsfilms (30) durch Strahlen des unter Verwendung eines ersten Inertgases als ein Betriebsgas erzeugten Ionenstrahls auf den Hartbeschichtungsfilm; und einen zweiten Ätzschritt des Ätzens des Hartbeschichtungsfilms (30) durch Strahlen des Ionenstrahls, der nach Wechseln des Betriebsgases von dem ersten Inertgas zu einem zweiten Inertgas, dessen Atomgewicht kleiner als das des ersten Inertgases ist, erzeugt wird, auf den Hartbeschichtungsfilm.</p> |
