发明名称 |
平版印刷版前体 |
摘要 |
公开了阴图制版平版印刷版前体,其包括涂层,该涂层包含可光聚合层和在可光聚合层和支撑物之间的任选中间层,其中所述涂层还包含聚硅氧烷,所述聚硅氧烷存在于可光聚合层和/或任选的中间层中,特征在于所述聚硅氧烷可通过使由通式(I)表示的至少一种有机硅化合物和由通式(II)表示的至少一种有机硅化合物反应获得。<img file="2013800297295100004dest_path_image002.GIF" wi="72" he="64" />式(I) <img file="dest_path_image004.GIF" wi="79" he="104" />式(II) |
申请公布号 |
CN104334351A |
申请公布日期 |
2015.02.04 |
申请号 |
CN201380029729.5 |
申请日期 |
2013.03.20 |
申请人 |
爱克发印艺公司 |
发明人 |
J.洛库菲尔;M.斯蒂纳克斯;S.维布鲁格赫 |
分类号 |
B41C1/10(2006.01)I;G03F7/004(2006.01)I |
主分类号 |
B41C1/10(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
周李军;林森 |
主权项 |
阴图制版平版印刷版前体,其包含具有亲水表面或提供有亲水层的支撑物、在所述支撑物上的涂层,所述涂层包括可光聚合层和在所述可光聚合层和所述支撑物之间的任选中间层,其中所述涂层还包含聚硅氧烷,所述聚硅氧烷存在于所述可光聚合层和/或所述任选的中间层中,特征在于所述聚硅氧烷可通过将至少一种由通式(I)表示的有机硅化合物与至少一种由通式(II)表示的有机硅化合物反应获得:<img file="2013800297295100001dest_path_image002.GIF" wi="84" he="79" />式(I)<img file="2013800297295100001dest_path_image004.GIF" wi="79" he="111" />式(II)其中R<sup>1</sup>表示包含至少一个自由基可聚合基团的基团,R<sup>2</sup>、R<sup>3</sup>、R<sup>6</sup>和R<sup>7</sup>独立表示烷氧基、芳氧基或酰氧基、任选被取代的烷基、环烷基、烯基、炔基、芳基或杂芳基;R<sup>4</sup>和R<sup>8</sup>独立表示任选被取代的烷基、环烷基、烯基、炔基、芳基、杂芳基或酰基;R<sup>5</sup>表示亲水基团,其选自羧酸或其盐、磺酸或其盐、或硫酸或其单酯或盐、被至少一个羟基取代的烃基、低聚氧化烯、季铵基、<img file="2013800297295100001dest_path_image006.GIF" wi="18" he="18" />基或它们的组合;和L<sup>1</sup>表示二价或三价连接基团;条件是R<sup>1</sup>和L<sup>1</sup>通过碳原子键合到硅原子。 |
地址 |
比利时莫策尔 |