一种多分区气体输送装置

摘要

一种气体输送装置包含输出可控流量反应气体的反应气体调节器；第一输气管将第一流量的反应气体，分别通过第一、第二限流装置输送到第一、第二气体分布区；第三输气管通过一个可控阀门连通到第一输气管，并通过第三限流装置也连通到第一气体分布区；第二输气管将第二流量的反应气体输送至第三气体分布区。本发明能够实现流量比不同的多路反应气体在喷淋头上多个区域的分布控制，从而在晶片表面获得均匀的等离子体处理效果。由于使用阀门等构成切换开关，只需要具备开启和关闭两种状态，控制简单；并且，阀门、限流孔的设置成本远低于流量控制装置（MFC），可以节约大量的生产成本。

主权项

一种多分区气体输送装置，其特征在于，所述气体输送装置包含：一个反应气体调节器，输出具有可控流量的反应气体；多个输气管包括输入端接收所述可控流量的反应气体，并包括各自的输出端连通至喷淋头（50）上对应设置的多个气体分布区；其中包括：第一输气管（11）通过第一限流装置连通到第一气体分布区（51），还通过第二限流装置连通到第二气体分布区（52）；一个第三输气管（13）通过一个可控阀门连通到所述第一输气管（11），并通过一个第三限流装置也连通到所述第一气体分布区（51）；其中所述可控阀门与第一输气管（11）的连接点，与所述第一限流装置和第二限流装置的输入端联通，第一、第二、第三限流装置分别为限流孔，所述可控阀门开通时流过第一和第三输气管的气压大于反应腔内气压的两倍以上。