发明名称 |
具有静电保护结构的功率器件 |
摘要 |
本实用新型公开一种具有静电保护结构的功率器件,包括:漂移层、漏区、漏极、P-掺杂区、第一N+掺杂区、P+掺杂区、第一绝缘膜、第二绝缘膜、多晶硅层、栅极、静电保护层、第三绝缘膜、源极、静电电极及导线层,所述静电保护层包括数个第二P-掺杂区以及数个第二N+掺杂区,所述数个第二P-掺杂区与数个第二N+掺杂区相间排列。本实用新型通过在内部设置数个相间排列的P-掺杂区与第二N+掺杂区,以形成一静电保护层—齐纳二极管结构,这样就可以去除静电安全电路等在电源模组内所占的空间,无需再另外设置静电保护结构,提高电源模组的空间效率,减少布线数量以及一些寄生参数,实现高效功率器件。 |
申请公布号 |
CN204144268U |
申请公布日期 |
2015.02.04 |
申请号 |
CN201420632706.5 |
申请日期 |
2014.10.29 |
申请人 |
深圳市可易亚半导体科技有限公司 |
发明人 |
赵喜高 |
分类号 |
H01L29/78(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/78(2006.01)I |
代理机构 |
深圳市合道英联专利事务所(普通合伙) 44309 |
代理人 |
廉红果 |
主权项 |
一种具有静电保护结构的功率器件,其特征在于,包括:漂移层,形成于所述漂移层下方的漏区,形成于所述漏区下方的漏极,形成于所述漂移层中的P‑掺杂区,形成于所述漂移层中的第一N+掺杂区,形成于所述漂移层中的P+掺杂区,形成于所述漂移层上的第一绝缘膜,形成于所述漂移层、第一P‑掺杂区与第一N+掺杂区上的第二绝缘膜,形成于所述第一、第二绝缘膜上的多晶硅层,形成于所述第二绝缘膜上的栅极,形成于所述第一绝缘膜上的静电保护层,形成于所述栅极、第一N+掺杂区、多晶硅层及静电保护层上的第三绝缘膜,形成于所述P+掺杂区与第一N+掺杂区上的源极,形成于所述多晶硅层上的静电电极,以及形成于所述源极、第三绝缘层及静电电极上的导线层;所述静电保护层包括数个第二P‑掺杂区以及数个第二N+掺杂区,所述数个第二P‑掺杂区与数个第二N+掺杂区相间排列。 |
地址 |
518000 广东省深圳市福田区车公庙天吉大厦CD座5C1 |