发明名称 超低方阻金属化有机膜
摘要 一种超低方阻金属化有机膜,包括基膜及真空蒸镀在基膜上的金属化铝膜,其特征在于,所述基膜是由以下重量份数的组分构成:聚对苯二甲酸乙二醇酯40份、聚丙烯20份、纳米碳化硅5份、低密度聚乙烯1C7A2份、荧光粉2份、石膏0.5份、丙烯酸乳液2份、辛酸锌0.5份、四异丙基碳酸酯0.5份、改性玉米淀粉5份、天然橡胶2份、大豆分离蛋白2份、醇酸树脂1.5份、尼泊金乙酯2份、氢醌1.5份、聚四氟乙烯2份;本发明超低方阻金属化有机膜性能稳定,长期存放不会变质,可耐受大电流冲击,能在极端环境下如太空中使用,承受温度急剧变化、高温、强振动和超重、高辐射环境、失重和微重力等条件。
申请公布号 CN104332306A 申请公布日期 2015.02.04
申请号 CN201410535022.8 申请日期 2014.10.11
申请人 铜陵市新泰电容电器有限责任公司 发明人 孔祥新
分类号 H01G4/005(2006.01)I;H01G4/008(2006.01)I 主分类号 H01G4/005(2006.01)I
代理机构 安徽信拓律师事务所 34117 代理人 娄尔玉
主权项 一种超低方阻金属化有机膜,包括基膜及真空蒸镀在基膜上的金属化铝膜,其特征在于,所述基膜是由以下重量份数的组分构成:聚对苯二甲酸乙二醇酯40份、聚丙烯20份、纳米碳化硅5份、低密度聚乙烯1C7A2份、荧光粉2份、石膏0.5份、丙烯酸乳液2份、辛酸锌0.5份、四异丙基碳酸酯0.5份、改性玉米淀粉5份、天然橡胶2份、大豆分离蛋白2份、醇酸树脂1.5份、尼泊金乙酯2份、氢醌1.5份、聚四氟乙烯2份;上述基膜的制备方法为:1)按上述重量份数称取各组分;2)将聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚丙烯、纳米碳化硅、低密度聚乙烯1C7A、石膏、四异丙基碳酸酯、醇酸树脂及聚四氟乙烯送入捏合机机中,在90‑120℃环境下热处理2‑3小时;3)将荧光粉、丙烯酸乳液、辛酸锌、改性玉米淀粉、天然橡胶、大豆分离蛋白、尼泊金乙酯及氢醌混匀后与步骤2)中的原料在捏合机中混炼均匀,于150℃处理6小时,配制成胶料;4)将步骤3)中的胶料经挤出模头进行挤出,挤出后的薄膜依次经冷却辊冷却、牵引拉伸、厚度测量、表面电晕处理、切边、卷绕成膜、检验、入库。
地址 244000 安徽省铜陵市东市开发区