发明名称 |
光学投影阵列曝光系统 |
摘要 |
公开了一种空间光调制器成像系统。该系统包括照明模块、投影模块及照明-投影光束分离器,该照明模块被配置为提供照明光,其中,该照明光呈现由该空间光调制器成像系统成像的数据图案;该投影模块被配置为将该照明光投射至基板;该照明投影光束分离器耦接于该照明模块与该投影模块之间;其中,该照明-投影光束分离器被配置为接收沿照明光轴的该照明光,并将所接收的照明光沿投影光轴传送至该投影模块,其中该照明光轴与该投影光轴实质上彼此平行。 |
申请公布号 |
CN104335117A |
申请公布日期 |
2015.02.04 |
申请号 |
CN201380029365.0 |
申请日期 |
2013.06.04 |
申请人 |
班布努克影像公司 |
发明人 |
大卫·马克尔;托马斯·莱迪格;杰弗瑞·卡斯基;陈正方 |
分类号 |
G03B27/72(2006.01)I;G02B6/10(2006.01)I |
主分类号 |
G03B27/72(2006.01)I |
代理机构 |
北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 |
代理人 |
李晓冬 |
主权项 |
一种空间光调制器成像系统,包括:照明模块,被配置为提供照明光,该照明光呈现将由该空间光调制器成像系统成像的数据图案;投影模块,被配置为将该照明光投射至基板;及照明‑投影光束分离器,耦接于该照明模块与该投影模块之间,其中该照明‑投影光束分离器被配置为接收沿照明光轴的该照明光,并将接收的该照明光沿投影光轴传送至该投影模块,其中该照明光轴与该投影光轴实质上彼此平行。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |