发明名称 高压锗硅异质结双极晶体管的制造方法
摘要 本发明公开了一种高压锗硅异质结双极晶体管的制造方法,其集电区的形成方法为:在三极管有源区打开后渐变深度的多次注入集电区N型杂质,然后通过快速热退火使多次注入的N型杂质连成一片,形成均匀的N型集电区杂质分布。该方法能有效降低集电区的总体电阻,与高成本的外延层集电区性能相一致,采用该方法制造的高压锗硅异质结双极晶体管成本低、且性能高。
申请公布号 CN102543726B 申请公布日期 2015.02.04
申请号 CN201010596089.4 申请日期 2010.12.20
申请人 上海华虹宏力半导体制造有限公司 发明人 陈帆;陈雄斌
分类号 H01L21/331(2006.01)I;H01L21/265(2006.01)I;H01L29/737(2006.01)I;H01L29/08(2006.01)I 主分类号 H01L21/331(2006.01)I
代理机构 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人 王函
主权项 一种高压锗硅异质结双极晶体管的制造方法,包括形成集电区、基区和发射区;其特征在于,其集电区的形成方法为:在三极管有源区打开后渐变深度的多次注入集电区N型杂质,然后通过快速热退火使多次注入的N型杂质连成一片,形成均匀的N型集电区杂质分布,该制造方法具体包括如下步骤:步骤一、在P型硅衬底上形成场氧区沟槽和有源区;步骤二、在所述有源区两侧的场氧区底部进行N型离子注入形成赝埋层;步骤三、在所述场氧区沟槽中填入氧化硅形成场氧区;步骤四、在所述有源区中进行渐变深度的多次N型离子注入形成集电区;然后再进行快速热退火工艺,使多次注入的N型杂质连成一片,形成均匀的N型集电区杂质分布;步骤五、形成基区;步骤六、形成发射区;步骤七、在所述赝埋层顶部的场氧区中形成深孔接触引出集电区电极。
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