发明名称 |
高压锗硅异质结双极晶体管的制造方法 |
摘要 |
本发明公开了一种高压锗硅异质结双极晶体管的制造方法,其集电区的形成方法为:在三极管有源区打开后渐变深度的多次注入集电区N型杂质,然后通过快速热退火使多次注入的N型杂质连成一片,形成均匀的N型集电区杂质分布。该方法能有效降低集电区的总体电阻,与高成本的外延层集电区性能相一致,采用该方法制造的高压锗硅异质结双极晶体管成本低、且性能高。 |
申请公布号 |
CN102543726B |
申请公布日期 |
2015.02.04 |
申请号 |
CN201010596089.4 |
申请日期 |
2010.12.20 |
申请人 |
上海华虹宏力半导体制造有限公司 |
发明人 |
陈帆;陈雄斌 |
分类号 |
H01L21/331(2006.01)I;H01L21/265(2006.01)I;H01L29/737(2006.01)I;H01L29/08(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/331(2006.01)I |
代理机构 |
上海浦一知识产权代理有限公司 31211 |
代理人 |
王函 |
主权项 |
一种高压锗硅异质结双极晶体管的制造方法,包括形成集电区、基区和发射区;其特征在于,其集电区的形成方法为:在三极管有源区打开后渐变深度的多次注入集电区N型杂质,然后通过快速热退火使多次注入的N型杂质连成一片,形成均匀的N型集电区杂质分布,该制造方法具体包括如下步骤:步骤一、在P型硅衬底上形成场氧区沟槽和有源区;步骤二、在所述有源区两侧的场氧区底部进行N型离子注入形成赝埋层;步骤三、在所述场氧区沟槽中填入氧化硅形成场氧区;步骤四、在所述有源区中进行渐变深度的多次N型离子注入形成集电区;然后再进行快速热退火工艺,使多次注入的N型杂质连成一片,形成均匀的N型集电区杂质分布;步骤五、形成基区;步骤六、形成发射区;步骤七、在所述赝埋层顶部的场氧区中形成深孔接触引出集电区电极。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江高科技园区祖冲之路1399号 |