发明名称 一种逆向热蒸发银反射膜加介质保护膜层的制备方法
摘要 本发明提供一种逆向热蒸发银反射膜加介质保护膜的制备方法,采用的膜层序列为Sub/CrNx/Ag/CrNx/SiOx/Air,制备过程中所有的蒸发源位于镜面上方,逆向热蒸发;承载铬(Cr)材料的主要部件为钨杆,承载银(Ag)材料的主要部件为钨丝环,保护膜材料为一氧化硅(SiO),装载于钽蒸发舟中;在氮气(N<sub>2</sub>)环境中蒸发Cr形成CrNx,在氧气(O<sub>2</sub>)环境中蒸发SiO形成SiOx。本发明具有工艺简单、操作方便、设备与材料成本低的优点,能够规避大型光学元件翻面带来的风险。
申请公布号 CN104328378A 申请公布日期 2015.02.04
申请号 CN201410614079.7 申请日期 2014.11.04
申请人 中国科学院光电技术研究所 发明人 裴文俊;刘洪祥
分类号 C23C14/26(2006.01)I;C23C14/18(2006.01)I 主分类号 C23C14/26(2006.01)I
代理机构 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 代理人 杨学明;顾炜
主权项 一种逆向热蒸发银反射膜加介质保护膜层的制备方法,其特征在于:待镀光学元件镜面朝上放置镀膜设备底部,所有材料蒸发源位于镜面上方,电阻加热式逆向热蒸发。
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