光致抗蚀剂和光刻方法

摘要

本发明公开了一种光致抗蚀剂以及使用该光致抗蚀剂进行光刻的方法。光致抗蚀剂中含有第一组分和第二组分，并且第一组分和第二组分对光的敏感波段基本不同。通过使用波长为两个敏感波段之一的光对光致抗蚀剂进行曝光，使得第一组分产生第一化学物质，然后使用另一个敏感波段的光对光致抗蚀剂进行均匀照射，使得第二组分产生第二化学物质，从而能够改善在光致抗蚀剂中所形成的第一化学物质的潜像的对比度，由此得到的光刻图案具有更好的边缘粗糙度。

主权项

一种使用光致抗蚀剂进行光刻的方法，所述光致抗蚀剂包括：基质树脂；用于产生化学放大作用的第一组分，该第一组分能够在第一波段的光的照射下产生第一化学物质，所述第一化学物质能够与所述基质树脂发生反应以形成潜像；以及第二组分，该第二组分能够在第二波段的光的照射下产生第二化学物质，所述第二化学物质能够与所述第一化学物质发生反应，从而降低第一化学物质在光致抗蚀剂中的质量浓度，所述方法包括以下步骤：提供表面覆盖有所述光致抗蚀剂的衬底；使用第一波段的光对所述光致抗蚀剂表面的选定区域进行选择性照射；使用第二波段的光对所述光致抗蚀剂表面的所有区域进行均匀照射；对所述光致抗蚀剂进行显影处理，从而形成所需要的光致抗蚀剂图案，其中所述第一组分是光致产酸剂，所述第一化学物质是光酸，所述第二组分是光致产碱剂，所述第二化学物质是光碱，并且在使用第二波段的光对所述光致抗蚀剂表面的所有区域进行均匀照射后，所述光致抗蚀剂中产生的光碱的质量浓度小于所述光酸的质量浓度的最小值，使得经过光酸和光碱的中和反应后，光酸的质量浓度的最小值接近零。