发明名称 一种制备纳米多孔硅的电化学腐蚀系统
摘要 本实用新型提供了一种制备纳米多孔硅的电化学腐蚀系统,包括两个腐蚀槽体,采用耐酸材料聚四氟乙烯材料制作,放置在底座支架上,两个腐蚀槽体通过密封固定夹具连接,使两个腐蚀槽体相互隔绝,仅通过硅片形成导通,每个腐蚀槽体底部设有两个电极固定座,腐蚀槽体顶部设有槽盖,槽盖上开有加液口和电极入口,腐蚀槽体底部开有排液口,排液口上安装排液阀。本实用新型降低了腐蚀液的用量,减少了人工操作工艺,降低了硅片损坏性。
申请公布号 CN204138813U 申请公布日期 2015.02.04
申请号 CN201420500229.7 申请日期 2014.09.01
申请人 中国兵器工业第二一三研究所 发明人 薛艳;刘兰;任小明;张晶鑫;张蕊;解瑞珍;平川;白颖伟
分类号 C25F3/12(2006.01)I;C25F7/00(2006.01)I;B82Y40/00(2011.01)I 主分类号 C25F3/12(2006.01)I
代理机构 西北工业大学专利中心 61204 代理人 顾潮琪
主权项 一种制备纳米多孔硅的电化学腐蚀系统,其特征在于:包括两个腐蚀槽体,采用耐酸材料聚四氟乙烯材料制作,放置在底座支架上,两个腐蚀槽体通过密封固定夹具连接,使两个腐蚀槽体相互隔绝,仅通过硅片形成导通,每个腐蚀槽体底部设有两个电极固定座,腐蚀槽体顶部设有槽盖,槽盖上开有加液口和电极入口,腐蚀槽体底部开有排液口,排液口上安装排液阀。
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