发明名称 |
一种制备纳米多孔硅的电化学腐蚀系统 |
摘要 |
本实用新型提供了一种制备纳米多孔硅的电化学腐蚀系统,包括两个腐蚀槽体,采用耐酸材料聚四氟乙烯材料制作,放置在底座支架上,两个腐蚀槽体通过密封固定夹具连接,使两个腐蚀槽体相互隔绝,仅通过硅片形成导通,每个腐蚀槽体底部设有两个电极固定座,腐蚀槽体顶部设有槽盖,槽盖上开有加液口和电极入口,腐蚀槽体底部开有排液口,排液口上安装排液阀。本实用新型降低了腐蚀液的用量,减少了人工操作工艺,降低了硅片损坏性。 |
申请公布号 |
CN204138813U |
申请公布日期 |
2015.02.04 |
申请号 |
CN201420500229.7 |
申请日期 |
2014.09.01 |
申请人 |
中国兵器工业第二一三研究所 |
发明人 |
薛艳;刘兰;任小明;张晶鑫;张蕊;解瑞珍;平川;白颖伟 |
分类号 |
C25F3/12(2006.01)I;C25F7/00(2006.01)I;B82Y40/00(2011.01)I |
主分类号 |
C25F3/12(2006.01)I |
代理机构 |
西北工业大学专利中心 61204 |
代理人 |
顾潮琪 |
主权项 |
一种制备纳米多孔硅的电化学腐蚀系统,其特征在于:包括两个腐蚀槽体,采用耐酸材料聚四氟乙烯材料制作,放置在底座支架上,两个腐蚀槽体通过密封固定夹具连接,使两个腐蚀槽体相互隔绝,仅通过硅片形成导通,每个腐蚀槽体底部设有两个电极固定座,腐蚀槽体顶部设有槽盖,槽盖上开有加液口和电极入口,腐蚀槽体底部开有排液口,排液口上安装排液阀。 |
地址 |
710000 陕西省西安市朱雀大街中段20号 |