| 发明名称 | 喷嘴单元以及具有该喷嘴单元的基板处理设备 | ||
| 摘要 | 本发明提供基板处理设备。本发明的基板处理设备包括：工艺管，容置用于收纳多个基板的装载器，加热器组件，包围所述工艺管，喷嘴单元，向所述工艺管的内部供给用于在所述基板的表面上形成薄膜的工艺气体；所述喷嘴单元包括用于屏蔽并反射来自所述加热器组件的热能的热反射构件。 | ||
| 申请公布号 | CN104334286A | 申请公布日期 | 2015.02.04 |
| 申请号 | CN201380027011.2 | 申请日期 | 2013.04.26 |
| 申请人 | 国际电气高丽株式会社 | 发明人 | 朴用城;李成光;金东烈 |
| 分类号 | B05B1/02(2006.01)I;H01L21/205(2006.01)I;C23C16/44(2006.01)I | 主分类号 | B05B1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人 | 姜燕;王卫忠 |
| 主权项 | 一种喷嘴单元，其特征在于，包括：第一管：具有多个喷射口；热反射构件，屏蔽并反射向所述第一管的内部传递的热能。 | ||
| 地址 | 韩国忠清南道天案市 | ||