| 发明名称 | 光刻仪器 | ||
| 摘要 | 一种光刻仪器，其将气体注入掩模(MA)和掩模刀片(REB-X，REB-Y)之间，以保护掩模不受污染。气体可以被注入掩模和最近的一对掩模刀片之间限定的空间中，或者注入在两对掩模刀片之间限定的空间中。 | ||
| 申请公布号 | CN104335121A | 申请公布日期 | 2015.02.04 |
| 申请号 | CN201380013882.9 | 申请日期 | 2013.02.28 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | K·巴尔;B·勒蒂克休斯;D·奥克维尔;A·范帕藤;H-K·尼恩海斯;M·伦德斯 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人 | 王茂华;郑振 |
| 主权项 | 一种仪器，包括：照明系统，被配置为调节辐射束，支撑结构，被构造为支撑图案形成装置，其中所述支撑结构包括用于接收所述图案形成装置的部分；辐射束整形器件，其从用于接收所述图案形成装置的部分隔开，由此在用于接收所述图案形成装置的部分和所述辐射束整形器件之间定义封闭空间CS，和其中所述仪器还包括具有供气出口的至少一个供气装置，所述供气出口被定位为将气体供应到所述封闭空间CS。 | ||
| 地址 | 荷兰维德霍温 | ||