发明名称 一种多孔氧化铝模板的制备方法
摘要 本发明公布了一种多孔氧化铝模板的制备方法,属于纳米压印技术领域。具体的操作步骤如下:首先对铝片表面进行清洗;然后在高氯酸、乙醇电化学溶液中进行电化学抛光;最后在对铝片进行两次氧化。该方法在制备氧化铝模板时不要在高温高压下处理铝片,缩短了制备时间,且制备的多孔氧化铝模板孔洞有序度高、尺寸和分布均匀。
申请公布号 CN104328470A 申请公布日期 2015.02.04
申请号 CN201410519694.X 申请日期 2014.09.30
申请人 无锡英普林纳米科技有限公司 发明人 万光会;肖延安
分类号 C25D11/12(2006.01)I 主分类号 C25D11/12(2006.01)I
代理机构 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人 成立珍
主权项 一种多孔氧化铝模板的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)铝片表面预处理:将铝片置于丙酮中超声20min,用蒸馏水冲洗,在NaOH溶液中浸泡5~8min,再用蒸馏水冲洗;(2)电化学抛光:将步骤(1)得到的铝片放入高氯酸、乙醇电化学溶液中,铝片为阳极,铂片为阴极,在电流恒定为800mA,温度为0℃条件下抛光11~15min,再用蒸馏水冲洗;(3)第一步阳极氧化:以步骤(2)得到的铝片为阳极,铂片为阴极,在草酸浓度为0.1~0.2mol/L、硫酸浓度为0.15~0.25mol/L的电解池中氧化,所述的氧化条件为:电压40V,温度50~60℃,氧化4~5h;氧化结束后将铝片取出,置于混合腐蚀液中浸泡处理;(4)第二步阳极氧化:以步骤(3)得到的铝片为阳极,铂片为阴极,在草酸浓度为0.3mol/L的电解池中氧化,所述的氧化条件为:电压40V,温度50~60℃,氧化4~5h,氧化结束后将铝片取出,即得到多孔氧化铝模板。
地址 214192 江苏省无锡市锡山经济开发区芙蓉中三路99号