发明名称 一种紧凑型布局的薄膜沉积设备
摘要 一种紧凑型布局的薄膜沉积设备,主要解决现有半导体薄膜沉积设备体积庞大,占地空间大及洁净间资源浪费等问题。它包括晶圆存储组件,在晶圆存储组件中放置晶圆,作为晶圆传入、传出过程中的堆栈及存储区域,主传片室中设有传片机械手,由机械手进行从晶圆存储组件取送片或从副传片室取送片操作,副传片室中有直线式传输机构对反应室进行晶圆的取送片操作。并可根据不同工艺流程要求挂载其他形式或功能的腔室。采用多边形组件合理布局,结构紧凑,通过对各组件所需最小空间尺寸的计算,整合各模块配合方式,可以有效的减少占地面积,节约洁净间成本。还可以根据不同的工艺制程要求挂载不同形式及功能的模块组件,增强组件的自由性及互换性。
申请公布号 CN204144225U 申请公布日期 2015.02.04
申请号 CN201420482962.0 申请日期 2014.08.25
申请人 沈阳拓荆科技有限公司 发明人 吴凤丽;姜崴;陈英男
分类号 H01L21/67(2006.01)I;H01L21/677(2006.01)I 主分类号 H01L21/67(2006.01)I
代理机构 沈阳维特专利商标事务所(普通合伙) 21229 代理人 甄玉荃;霍光旭
主权项 一种紧凑型布局的薄膜沉积设备,包括晶圆存储组件(1),其特征在于:在晶圆存储组件(1)中放置晶圆,作为晶圆传入、传出过程中的堆栈及存储区域,主传片室(2)中设有传片机械手(3),由机械手(3)进行从晶圆存储组件(1)取送片或从副传片室(4)取送片操作,副传片室(4)中有直线式传输机构对反应室(5)进行晶圆的取送片操作,上述晶圆存储组件(1)、主传片室(2)及副传片室(4)的形状呈多边形。
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