发明名称 |
汽相沉积系统 |
摘要 |
本发明涉及一种汽相沉积系统,具体地,涉及一种化学束薄膜沉积设备及薄膜沉积的方法。本发明提供了一种用于对多种种类进行真空沉积的喷嘴,所述喷嘴被分成多个四分部,每个四分部包含至少一个用于所述种类的出口,所述四分部中的每一个定义位于下方的隔间的壁,该隔间包含至少一个种类,其中两个相邻的隔间包含不同种类。 |
申请公布号 |
CN104328391A |
申请公布日期 |
2015.02.04 |
申请号 |
CN201410352919.7 |
申请日期 |
2009.10.08 |
申请人 |
ABCD技术有限公司 |
发明人 |
G·本韦努蒂;E·阿拉里瓦格纳;C·派特 |
分类号 |
C23C16/455(2006.01)I;C23C16/48(2006.01)I |
主分类号 |
C23C16/455(2006.01)I |
代理机构 |
北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 |
代理人 |
张春媛;阎娬斌 |
主权项 |
一种化学束薄膜沉积设备,其特征在于,该设备利用化学前体分子的视线传播在高真空或超高真空条件下操作,该化学束薄膜沉积设备具有多个前体隙流源和位于前体隙流源中的多个相同或不同的前体;该化学束薄膜沉积设备使用束阴影效应以准确并可预测的方式改变前体分子在基板上的碰撞率分布,从而获得厚度的梯度或局部图形、化学沉积或微米或纳米级的材料特性并获得薄膜的直接的3D图形。 |
地址 |
瑞士日内瓦 |