原子水素を用いて基板表面を洗浄するための方法及び装置

摘要

本明細書において、基板表面を洗浄するための方法及び装置が提供される。幾つかの実施形態では、基板の表面を洗浄する方法は、その中に配置された複数のフィラメントを有する第１のチャンバに水素含有ガスを供給することと、複数のフィラメントの中に電流を流し、複数のフィラメントの温度を水素含有ガスの少なくとも一部を分解するのに十分なプロセス温度まで上昇させることと、分解された水素含有ガスから形成された水素原子に基板をある時間にわたって暴露することによって基板の表面を洗浄することとを含むことができる。【選択図】図１