光硬化性聚矽氧烷组成物及其应用

摘要

本发明系有关一种光硬化性聚矽氧烷组成物及由该光硬化性聚矽氧烷组成物所形成之薄膜，其用于形成TFT基板用平坦化膜、层间绝缘膜或光波导路之芯材或包覆材之保护膜，该薄膜具有表面平坦性佳、图案具高椎度角等特性。该光硬化性聚矽氧烷组成物包含：聚矽氧烷聚合物(A)、邻萘醌二叠氮化合物(B)、含矽烷基之硷可溶性树脂(C)以及溶剂(D)。