发明名称 接着薄片、及切割.晶粒接合薄膜
摘要 本发明提供可靠性高且凹凸填埋性优异的接着薄片、及切割晶粒接合薄膜。本发明关于一种接着薄片,其包含球状氧化铝填料和树脂成分,所述树脂成分包含高分子量成分(A)和低分子量成分(B),相对于100重量份接着薄片,前述球状氧化铝填料的含量为78~88重量份,前述球状氧化铝填料的平均粒径为2~9μm,比表面积为0.8~8.0m 2 /g,由前述高分子量成分(A)的重量/前述高分子量成分(A)和前述低分子量成分(B)的总重量表示的重量比为0.03~0.25。
申请公布号 TW201504384 申请公布日期 2015.02.01
申请号 TW103119213 申请日期 2014.06.03
申请人 日东电工股份有限公司 发明人 木村雄大;三隅贞仁;大西谦司;宍户雄一郎;菅生悠树
分类号 C09J7/00(2006.01);C09J11/04(2006.01);C08K7/18(2006.01);H01L21/304(2006.01) 主分类号 C09J7/00(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本