发明名称 光阻组成物之制造方法
摘要
申请公布号 TWI471690 申请公布日期 2015.02.01
申请号 TW101138427 申请日期 2012.10.18
申请人 东京应化工业股份有限公司 发明人 大野庆晃;藤江玲頼;中村靖
分类号 G03F7/004;G03F7/26 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种光阻组成物之制造方法,其包含藉由混合利用酸之作用而改变对硷显像液之溶解性之至少两种类之树脂溶液(A1)及(A2),而获得混合树脂溶液(A)之步骤,藉由于前述混合树脂溶液(A)中添加第二溶剂(S2),而获得稀释至特定树脂浓度之稀释树脂溶液(A’)之步骤,藉由使第一溶剂(S1)通过具有金属杂质吸附能之第一过滤器,而获得已去除金属杂质之第一溶剂(S’1)之步骤,藉由使前述稀释树脂溶液(A’)通过具有金属杂质吸附能之第二过滤器,而获得已去除金属杂质之稀释树脂溶液(A”)之步骤,藉由将利用曝光而产生酸之酸产生剂(B)添加于前述已去除金属杂质之稀释树脂溶液(A”)中,而获得混合物(C)之步骤,及藉由以前述已去除金属杂质之第一溶剂(S’1)稀释前述混合物(C),而获得具有所需黏度之光阻组成物之步骤。
地址 日本