| 主权项 |
一种金属用研磨液，用以研磨具有被研磨膜的基板，该金属用研磨液含有：(a)将该金属用研磨液的总量设为100wt%时大于等于9.0wt%且小于等于20wt%的金属的氧化剂，且该金属的氧化剂是选自过氧化氢、过硫酸铵、硝酸铁、硝酸、过碘酸钾、次氯酸以及臭氧水中的至少一种；(b)水溶性聚合物，其重量平均分子量大于等于180,000且小于等于1,000,000，且该水溶性聚合物是选自聚羧酸、聚羧酸盐以及聚羧酸酯中的至少一种；(c)氧化金属溶解剂，且该氧化金属溶解剂是选自有机酸、有机酸酯、有机酸的铵盐、无机酸以及无机酸的铵盐中的至少一种；(d)金属防蚀剂，且该金属防蚀剂是选自具有三唑骨架的化合物、具有嘧啶骨架的化合物、具有咪唑骨架的化合物、具有胍骨架的化合物、具有噻唑骨架的化合物以及具有吡唑骨架的化合物中的至少一种；(e)水；以及研磨粒，其二次粒子的平均粒径小于等于100nm；该金属用研磨液会使矽基板上积层有厚度大于等于500nm的铜箔的晶圆于25℃下经浸渍12小时而形成反应层，该反应层的厚度大于等于110nm，将该金属膜用研磨液的总量设为100wt%时，该水溶性聚合物的调配量是大于等于0.01wt%且小于等于10
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