| 摘要 |
一种设计光学光罩的方法，该方法包括：设置目标图案；以光学邻近校正(OPC)模型校正该目标图案；调整该目标图案及/或该光学邻近校正模型；以及校正第一校正图案。该目标图案指示在半导体基板上之光阻层中之预图案化开口之目标形状。校正该目标图案包括使用光学邻近校正(OPC)模型以产生包含边缘位置误差(EPE)资讯、第一校正图案及/或该预图案化开口之模拟轮廓的光学邻近校正输出资讯。调整该目标图案及/或该光学邻近校正模型包括以基于该光学邻近校正输出资讯之在光学邻近校正的基础上的调整。校正该第一校正图案包括回应以该光学邻近校正为基础之调整而使用该光学邻近校正模型以产生第二校正图案。 |
