发明名称 基板处理系统及基板处理方法
摘要
申请公布号 TWI471966 申请公布日期 2015.02.01
申请号 TW099106575 申请日期 2010.03.08
申请人 光洋热系统股份有限公司 发明人 森晃一;吉原贤一;向井正行
分类号 H01L21/677;B65G49/07 主分类号 H01L21/677
代理机构 代理人 赖经臣 台北市松山区南京东路3段346号11楼;宿希成 台北市松山区南京东路3段346号11楼
主权项 一种基板处理系统,具有可对基板进行热处理之构造,且包含有:复数处理室,具有可对基板进行热处理之构造;搬送机械手臂,用以搬送基板;以及控制部,用以控制上述处理室和上述搬送机械手臂,又,上述处理室具有:多层框架,以将基板支承在各层上;以及门,在搬入和搬出基板时,可对应多层框架中的预定层,打开或关闭,上述控制部,系控制上述搬送机械手臂和上述门的动作,将搬入一处理室内后经过规定时间的基板,从该一处理室搬出,接着,将未处理基板搬入该一处理室内后,将搬入另一处理室内后经过规定时间的基板,从该另一个处理室搬出,接着,将未处理基板搬入该另一处理室内,之后亦藉由对上述复数处理室依序继续如此动作,并对上述复数处理室内支承在上述多层框架上的所有基板,进行规定时间的热处理。
地址 日本